摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种简易式激光打印机废粉清理的新型废粉仓的制作方法
    本实用新型属于打印设备,尤其是涉及一种简易式激光打印机废粉清理的新型废粉仓。目前激光打印机在办公设备领域已经占领了绝对的市场,随着人们对激光打印机要求的日益提高,各大激光打印机厂家也在不断的对产品升级。在办公打印过程中,最常出现的问题就是当大量打印时会出现漏粉现象,出现此问题的原因...
  • 一种双色激光打印机专用硒鼓架的制作方法
    本实用新型属于打印设备,尤其是涉及一种双色激光打印机专用硒鼓架。目前市面上的激光打印机在功能上可以说是五花八门,各大打印机厂商根据客户的需求开发处不同的功能,政府等机关部门对红头文件打印的需求逐渐占领专用市场,彩色激光打印机对于红头文件打印来说是相当浪费的,所以推出一款双色激光打印...
  • 一种新型双面激光打印机反向走纸托盘的制作方法
    本实用新型属于打印设备,尤其是涉及一种新型双面激光打印机反向走纸托盘。目前激光打印机已经成为办公设备领域中不可或缺的一部分,随着人们对打印需求的日益提高,打印机的功能也逐渐丰富起来,并在速度和质量上有了很大的提高,在双面打印功能中,最能解决的问题就是反向纸路的设计,对纸路的要求以及...
  • 一种DES显影后水洗溢流的制作方法
    本实用新型涉及PCB制造品质改善,具体为一种DES显影后水洗溢流。目前PCB生产内层采用DES真空蚀刻线。生产过程中发现显影后水洗段有大量泡沫、油墨积存,严重影响生产品质;如无法得到改善,品质不良将直接导致成本浪费;我司为了改善此不良,预计对显影水洗段的设计进行更改,提升产品良率,...
  • 一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置的制作方法
    本实用新型涉及光阻涂布机,尤其涉及一种水性蚀刻光阻剂的循环回收装置。目前,行业内使用的光阻旋转涂布机,在对标准基板进行涂布时,约使用90立方厘米的水性蚀刻光阻剂,但只有大约30立方厘米的水性蚀刻光阻剂留在基板上,造成了水性蚀刻光阻剂的浪费。实用新型内容本实用新型的目的是为了解决现有...
  • 一种全自动显影机喷淋装置的制作方法
    本实用新型涉及显影机喷淋,具体为一种全自动显影机喷淋装置。目前,现有的显影机喷淋装置由于管道弯折的地方较多,容易造成能量损失,液体的动能损失较大,造成液体流动速度降低,使得高压喷淋的压力减小,喷淋效果差,而为了增加压力,通常采用功率更高的水泵或增加水泵数量,这无疑增加了生产成本,不...
  • 热敏版自动冲版机显影液添加装置的制作方法
    本实用新型涉及显影液添加装置,具体为热敏版自动冲版机显影液添加装置。胶印作为印刷工艺的一种,以其印制品墨层厚实,颜色鲜艳、饱和度高、印版耐印率高、印品质量稳定、印刷速度快等优点在印刷包装及图文出版领域内占据极其重要的地位。胶印方式生产的包装产品具有图案精细、墨色鲜艳、图文清晰等优点...
  • 一种自动曝光机的制作方法
    本实用新型涉及印刷电路板在图形影像转移过程中的自动化,尤其涉及一种自动曝光机。目前,在印制电路图形的自动曝光机中,都是通过机械滚轮摩擦传送工件、机械手吸盘摄取工件表面来实现工件的定位、交替和工位之间的自动衔接。存在机械结构复杂,传送链长;占地面积大;机械动作循环周期长,生产效率低等...
  • 掩模台、掩模台系统和曝光装置的制作方法
    本实用新型涉及半导体制作领域,尤其涉及一种掩模台、掩模台系统和曝光装置。光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸,是大规模集成电路制造的关键工艺。光刻机是光刻工艺中最重要设备之一。通过光刻机,将掩模板上的掩模图案成像在涂覆有光刻胶的硅片上。目前的光刻机主要包括两类,一类是步进式光刻机,掩...
  • 一种玻璃菲林曝光治具的制作方法
    本实用新型一种玻璃菲林曝光治具,属于精密丝网印刷。在二次印刷的匹配和SE网版的制作中,网版图形的尺寸控制要求愈加严格。网版尺寸与菲林尺寸存在定量关系,但银盐菲林的尺寸随着温湿度的变化较大,使用过程中无法保持稳定,因此使用玻璃菲林进行网版制作是非常好的选择。但玻璃菲林存在两个问题:一...
  • 一种无网结手摇摄像头的制作方法
    本实用新型一种无网结手摇摄像头,属于精密丝网印刷。目前,在无网结网版制作中,曝光这一步骤使得网版得以成像。在贴菲林时,需保证每一条副栅线都置于相邻两条丝网之间,与丝网经线没有相交、重叠,方能满足需求。鉴于肉眼无法辨别副栅线位置是否符合标准,放大镜观察视野小,使用不便,对生产效率产生...
  • 一种二次曝光治具的制作方法
    本实用新型一种二次曝光治具,属于精密丝网印刷。在网版制作中,需要首先对网版P面进行曝光;并通过背面菲林对位,在S面进行二次曝光,保证网版曝光充足,从而提高耐磨性。但由于网框的厚度存在,使得网版S面存在一个凹槽,在无外力作用的情况下,背面菲林与网版无法紧密贴合。而菲林与网版之间空气的...
  • 一种光刻机的制作方法
    本实用新型涉及一种集成电路生产工艺,尤其涉及一种光刻机。在集成电路生产过程中,光刻曝光工艺是其中必不可少的步骤。硅片在进入光刻机前通常会经过许多工艺流程,由于工艺和机台问题,硅片的背部经常黏附颗粒而受到污染,或硅片因制造异常而导致背部有凸起,异常的硅片经光刻机的承片台送入曝光平台上进行曝光...
  • 一种单面冷光源曝光机的制作方法
    本实用新型属于曝光机,尤其是涉及一种单面冷光源曝光机。普通曝光机采用汞灯光源,由于汞灯光源功率过大,容易造成热面积累积,对曝光机造成较大损耗,且普通曝光机对光源和凸镜之间的距离调节不便,影响曝光效果。发明内容有鉴于此,本实用新型旨在提出一种单面冷光源曝光机,通过使用LED冷光源替换...
  • 一种用于直写式曝光机的Z轴运动机构的制作方法
    本实用新型涉及激光直写式曝光机,具体为一种用于直写式曝光机的Z轴运动机构。激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图,相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术,直写式曝光技术产能高,对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。直写式曝光机往往会设置...
  • 一种双台面直写式曝光机的制作方法
    本实用新型涉及激光直写式曝光机,具体为一种双台面直写式曝光机。激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图,相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术,直写式曝光技术产能高,对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。目前市场上直写曝光多以单台面曝光机为...
  • 光阻喷嘴装置的制作方法
    本实用新型属于半导体设备领域,涉及一种光阻喷嘴装置。在半导体集成电路领域中,光刻工艺一直被认为是集成电路制造中最关键的步骤,其在整个工艺过程中需要被多次使用,对产品的质量有着重要的影响。现有的光刻工艺流程中,涂布光阻的方法常常采用旋转涂布法,即通过位于晶圆上方的喷嘴向晶圆喷涂光阻溶液,并通...
  • 一种水性蚀刻光阻剂用涂布机的制作方法
    本实用新型涉及涂布机,尤其涉及一种水性蚀刻光阻剂用涂布机。根据实际生产情况,光阻涂布机需要在基板上涂布不同的光阻,在涂布的过程中,光阻涂布机的喷涂位置时固定的,在将基板放置在输送带上输送进光阻涂布机的过程中,基板的放置位置可能会产生偏差,导致产品涂布失败,从而产生废品。实用新型内容...
  • 一种光学相机检校用调焦装置的制作方法
    本实用新型涉及光学调焦,具体是一种光学相机检校用调焦装置。焦距与人类的眼睛一样,光学相机是通过镜头来摄取世界万物,作为光学相机的镜头,其最主要的特性也是镜头的焦距值,镜头的焦距不同,能拍摄的景物广阔程度就不同,照片效果也迥然相异,因此,光学相机的调焦就是改变相机前后镜头的相对位置来...
  • 一种水幕投影装置的制作方法
    本实用新型涉及投影装置设备,具体涉及一种水幕投影装置。随着科技的进步和社会的发展,人们对于生活品质的追求也越来越高,如今的商场会制造一些水幕,并且在水幕上制造投影。但是现有的投影光束较为刺眼,影响周围人群的视觉效果。发明内容针对现有技术存在的问题,本实用新型提供一种水幕投影装置,以解决上述...
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